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                ALD技術

                案例展示

                ALD技術

                這是描述信息

                1970s-第一階段

                ALD的發明
                Suntola提出ALD概念并逐漸完善

                 

                1980s-1990s-第二階段

                ALD的孕育與積累
                ALD開始應用于TFT等領域獨特的自限制沉積模式優勢初顯

                 

                2000s~至今-第三階段

                ALD大規模應用與爆發
                ALD開始應用于intel處理器的high-k層并開始大規模應用

                應用領域不斷拓展

                 

                能源領域:太陽能電池背面鈍化、光伏活性層、防腐鍍膜、超親水/疏水涂層、防塵涂層、鋰離子電池材料增效
                微電子和微機電領域:存儲器件活性層、OLED封裝、納米結構器件、微部件的防腐蝕和抗磨損
                光學應用:反射涂層和増透涂層,透鏡保護、光柵器件、曲面鍍膜
                其他:膜結構和多孔結構催化活性層、高效貴金屬活性層

                 

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